MPro是针对高端研发和质量控制领域推出的型多入射角激光椭偏仪。

EMPro可在单入射角度或多入射角度下进行高精度、高准确性测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量快速变化的纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计实现了纳米薄膜的相对厚度测量。

EMPro采用了量拓科技多项技术。

特点：

原子层量的灵敏度

采样方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量原子层量的极薄纳米薄膜，膜厚精度达到0.01nm，折射率精度达到0.0001。

百毫秒量的快速测量

水准的仪器设计，在保证精度和准确度的同时，可在几百毫秒内快速完成一次测量，可满足单原子膜层生长的实时测量。

简单方便的仪器操作

用户只需一个按钮即可完成复杂的材料测量和分析过程，数据一键导出。丰富的模型库、材料库方便用户进行高测量设置。

应用：

EMPro适合于高精度要求的科研和工业产品环境中的新品研发或质量控制。

EMPro可用于测量单层或多层纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k；可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；可用于实时测量快速变化的纳米薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。

EMPro可应用的纳米薄膜领域包括：微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、化学、电化学、磁介质存储、平板显示、聚合物及金属表面处理等。可应用的块状材料领域包括：固体（金属、半导体、介质等），或液体（纯净物或混合物）。

技术指标：

注：(1)测量重复性：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量25次所计算的标准差。

性能保证：

高稳定性的He-Ne激光光源、采样方法以及低噪声探测技术，保证了高稳定性和高准确度

高精度的光学自准直系统，保证了快速、高精度的样品方位对准

稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合采样技术，保证了快速、稳定测量

分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和相对厚度的测量

一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间

一键式软件设计以及丰富的物理模型库和材料数据库，方便用户使用

准确度测试：

在入射角40°~85°范围内对Si基底上SiO2薄膜样品椭偏角Psi和Delta测量值和理论拟合值如下图所示：

可选配件：

NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片

NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片

VP01真空吸附泵

VP02真空吸附泵

样品池