特别声明：

EM01-RD多入射角激光椭偏仪（研发）已升至EMPro31 型多入射角激光椭偏仪，主要升内容包括：

单次测量速度提高3倍;

新的仪器外形;

整体稳定性增强.

纳米薄膜高端研发领域的多入射角激光椭偏仪，用于纳米薄膜的厚度、折射率n、消光系数k等参数的测量。适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。采用量拓科技多项技术，仪器操作具有个性化定制功能，方便使用。

特点：

高精度、高稳定性

一体化集成设计

快速、高精度样品方位对准

多入射角度测量

快速反应过程的实时测量

操作简单

丰富的材料库及物理模型

强大的数据分析和管理

应用领域：

可对纳米薄膜层构样品的薄膜厚度、折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适合于科研和工业产品环境中的新品研发

可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构膜系，以及块状材料（基底）。

应用领域涉及纳米薄膜的几乎领域，如微电子、半导体、集成电路、显示技术、太阳电池、光学薄膜、生命科学、电化学、磁介质存储、聚合物及金属表面处理等。

性能保证：

高稳定性的He-Ne激光光源、高精度的采样方法以及低噪声探测技术，保证了系统的高稳定性和高准确度

.高精度的光学自准直望远系统，保证了快速、高精度的样品方位对准

稳定的结构设计、可靠的样品方位对准，结合采样技术，保证了快速、稳定测量

分立式的多入射角选择，可应用于复杂样品的折射率和相对厚度的测量

一体化集成式的仪器结构设计，使得系统操作简单、整体稳定性提高，并节省空间

软件方便纳米薄膜样品的测试和建模。

技术指标：

NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片

NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片

VP01真空吸附泵

VP02真空吸附泵

样品池